外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照《集成电路布图设计保护条例》享有布图设计（）。

A. 外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。

B. 外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。

C. 外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。

D. 外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。

A.作品完成

B.作者向单位交付

C.出版

D.单位同意

A.布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生

B.未经登记的布图设计不受集成电路布图设计保护条例的保护

C.无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起10年后，不再受集成电路布图设计保护条例的保护

D.布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记

A.单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计

B.对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制

C.将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用

D.将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用

A.中国公民未发表的作品不享有著作权

B.外国人的作品首先在中国境内出版的，享有著作权

C.美术作品出版后，该美术作品原件的展览权归出版人享有

D.合作作品的著作权保护期截止于最早死亡的作者死亡后第五十年

A.制作

B.复制

C.商业利用

D.使用

A.10年

B.15年

C.20年

D.25年

A.对受保护的布图设计的全部进行复制

B.对受保护的布图设计中的任何具有独创性的部分进行复制

C.将受保护的布图设计投入商业利用

D.将含有受保护的布图设计的集成电路投入商业利用

A、登记取得

B、创作或使用取得

C、申请取得

D、注册在先取得

A.版权

B.相关权利

C.集成电路布图设计

D.工业设计和专利